鎢靶材
我們生產的鎢靶材純度高達 99.97%, 其密度在18.8-19g之間 / 厘米3, 具有均勻的微觀結構和細小的晶粒. 由於其熔點高的特點, 高彈性, 低熱膨脹係數, 良好的電阻率和熱穩定性, 純鎢及鎢合金靶材廣泛應用於半導體集成電路, 平板顯示器, 太陽能光伏發電, X 射線管和表面工程. 它們可以與舊的濺射設備和儀器一起使用, 或採用最新的工藝設備, 例如太陽能電池的大面積塗層, 燃料電池和倒裝芯片.
鎢濺射靶材
鎢濺射靶材採用最先進的技術, 包括 X 射線熒光 (X射線熒光光譜), 輝光放電質譜分析 (GDMS), 和感應耦合等離子體 (ICP). 濺射物理氣相沉積是生產薄膜材料的重要方法之一 (物理氣相沉積). 由靶材製成的薄膜具有密度高、附著力好等特點. 作為廣泛應用的磁控濺射技術, 高純度金屬及合金靶材非常必要. 我們可以根據客戶的要求生產鎢濺射靶材.
