鉬濺鍍靶材
從鉬濺射靶標的濺射的磁控蛋白具有高密度和較強粘附的特徵. 此外, 鉬具有高熔點的特性, 低熱膨脹係數, 低電阻率, 良好的熱穩定性和超細晶粒; 鉬濺射靶標的純度超過3N, 它的密度接近10.2g/cm的理論密度3. 它具有統一的內部結構.
鉬濺射靶標被廣泛用於LCD和触摸屏的製造, 太陽能電池和太陽能熱水, 導電玻璃, 所有表面塗料和旋轉塗料系統.
我們是鉬目標的專業供應商. 我們擁有出色的設施，包括熱滾動機和四高冷滾動廠. 目標是通過鉬粉燒結而形成的. 在大多數情況下, 它是被鉬靶後的正極電極. 鉬靶厚，表面有光澤. 根據客戶的要求, 我們可以產生各種目標, 例如圓形, 多孔, 矩形等.
鉬濺射靶標的規格
光盤目標
直徑: 10毫米至360mm
厚度: 0.1毫米至10mm
平面目標
寬度: 20毫米至600mm
長度: 20毫米至2000mm
厚度: 0.1毫米至10mm
旋轉目標
外徑: 20mm至400mm
壁厚: 1mm至30mm
長度: 100毫米至3000mm
