钼溅射靶材
从钼溅射靶标的溅射的磁控蛋白具有高密度和较强粘附的特征. 此外, 钼具有高熔点的特性, 低热膨胀系数, 低电阻率, 良好的热稳定性和超细晶粒; 钼溅射靶标的纯度超过3N, 它的密度接近10.2g/cm的理论密度3. 它具有统一的内部结构.
钼溅射靶标被广泛用于LCD和触摸屏的制造, 太阳能电池和太阳能热水, 导电玻璃, 所有表面涂料和旋转涂料系统.
我们是钼目标的专业供应商. 我们拥有出色的设施，包括热滚动机和四高冷滚动厂. 目标是通过钼粉烧结而形成的. 在大多数情况下, 它是被钼靶后的正极电极. 钼靶厚，表面有光泽. 根据客户的要求, 我们可以产生各种目标, 例如圆形, 多孔, 矩形等.
钼溅射靶标的规格
光盘目标
直径: 10毫米至360mm
厚度: 0.1毫米至10mm
平面目标
宽度: 20毫米至600mm
长度: 20毫米至2000mm
厚度: 0.1毫米至10mm
旋转目标
外径: 20mm至400mm
壁厚: 1mm至30mm
长度: 100毫米至3000mm
